trattamento termico chimico superficiale
Il trattamento termico chimico è un processo di trattamento termico in cui il pezzo viene posto in un mezzo specifico per il riscaldamento e la conservazione del calore, in modo che gli atomi attivi nel mezzo penetrino nello strato superficiale del pezzo, modificando così la composizione chimica e la struttura del pezzo. strato superficiale del pezzo e quindi modificandone le prestazioni. Il trattamento termico chimico è anche uno dei metodi per ottenere la tenacità della superficie, del duro e del rivestimento. Rispetto alla tempra superficiale, il trattamento termico chimico non solo modifica la struttura superficiale dell'acciaio, ma ne modifica anche la composizione chimica. A seconda dei diversi elementi infiltrati, il trattamento termico chimico può essere suddiviso in cementazione, nitrurazione, multi-infiltrazione, infiltrazione di altri elementi, ecc. Il processo di trattamento termico chimico comprende tre processi fondamentali: decomposizione, assorbimento e diffusione.
Trattamento termico chimico comunemente usato:
Carburazione, nitrurazione (comunemente nota come nitrurazione), carbonitrurazione (comunemente nota come cianurazione e nitrurazione dolce), ecc. Solforazione, boronizzazione, alluminizzazione, vanadizzazione, cromatura, ecc.
rivestimento metallico
Rivestire uno o più rivestimenti metallici sulla superficie del materiale di base può migliorarne significativamente la resistenza all'usura, alla corrosione e al calore o ottenere altre proprietà speciali. Esistono galvanica, placcatura chimica, placcatura composita, placcatura per infiltrazione, placcatura per immersione a caldo, evaporazione sotto vuoto, placcatura a spruzzo, placcatura ionica, sputtering e altri metodi.
Rivestimento in carburo metallico - Deposizione di vapore
La tecnologia di deposizione di vapore si riferisce a un nuovo tipo di tecnologia di rivestimento che deposita sostanze in fase vapore contenenti elementi di deposizione sulla superficie dei materiali mediante metodi fisici o chimici per formare film sottili.
Secondo il principio del processo di deposizione, la tecnologia di deposizione da vapore può essere divisa in due categorie: deposizione fisica da vapore (PVD) e deposizione chimica da vapore (CVD).
Deposizione fisica da vapore (PVD)
La deposizione fisica da vapore si riferisce a una tecnologia in cui un materiale viene vaporizzato in atomi, molecole o ionizzato in ioni mediante metodi fisici in condizioni di vuoto e una pellicola sottile viene depositata sulla superficie del materiale attraverso un processo in fase gassosa.
La tecnologia di deposizione fisica comprende principalmente tre metodi di base: evaporazione sotto vuoto, sputtering e placcatura ionica.
La deposizione fisica del vapore ha un'ampia gamma di materiali di substrato e materiali di pellicola applicabili; il processo è semplice, fa risparmiare materiale e non inquina; il film ottenuto presenta i vantaggi di una forte adesione alla base del film, uno spessore uniforme del film, compattezza e un minor numero di fori di spillo.
Deposizione chimica da fase vapore (CVD)
La deposizione chimica da vapore si riferisce a un metodo in cui un gas misto interagisce con la superficie di un substrato a una determinata temperatura per formare una pellicola metallica o composta sulla superficie del substrato.
Poiché il film di deposizione chimica da vapore ha una buona resistenza all'usura, resistenza alla corrosione, resistenza al calore e proprietà elettriche, ottiche e altre proprietà speciali, è stato ampiamente utilizzato nella produzione di macchinari, nell'aerospaziale, nei trasporti, nell'industria chimica del carbone e in altri campi industriali.
