U trattamentu termicu chimicu hè un prucessu di trattamentu termale in u quale a pezza hè posta in un mediu specificu per u riscaldamentu è a preservazione di u calore, in modu chì l'atomi attivi in ​​u mediu penetranu in a superficia di a pezza, cambiendu cusì a cumpusizioni chimica è a struttura di u travagliu. strata di a superficia di u travagliu, è dopu cambià a so prestazione. U trattamentu termicu chimicu hè ancu unu di i metudi per ottene a durezza di a superficia, dura è fodera. In cunfrontu cù a spegnimentu di a superficia, u trattamentu termicu chimicu ùn cambia solu a struttura di a superficia di l'acciaio, ma ancu cambia a so cumpusizioni chimica. Sicondu à i sfarenti elementi infiltrated, trattamentu calori chimicu pò esse divisu in carburizing, nitriding, multi-infiltration, infiltration di altri elementi, etc. U prucessu di trattamentu di calore chimicu include trè prucessi basi: decomposition, absorption, è diffusion.

Trattamentu termicu chimicu cumunimenti usatu:

Carburizing, nitruring (cumunemente canusciutu comu nitruring), carbonitruding (cumunemente canusciutu comu cianuration e nitruring soft), etc. Sulfurizing, boronizing, aluminizing, vanadizing, chromizing, etc.

Rivestimentu di unu o più rivestimenti di metallu nantu à a superficia di u materiale di basa pò migliurà significativamente a so resistenza à l'usura, a resistenza à a corrosione è a resistenza à u calore, o uttene altre proprietà speciale. Ci sò galvanica, placcatura chimica, placcatura composita, placcatura infiltrazione, placcatura per immersione calda, evaporazione di vacuum, placcatura spray, placcatura ionica, sputtering è altri metudi.

Rivestimentu di carburu di metallu - Depositu di vapore

A tecnulugia di deposizione di vapore si riferisce à un novu tipu di tecnulugia di rivestimentu chì deposita sustanzi in fase di vapore chì cuntenenu elementi di deposizione nantu à a superficia di i materiali per metudi fisichi o chimichi per furmà filmi sottili.

Sicondu u principiu di u prucessu di depositu, a tecnulugia di deposizione di vapore pò esse divisa in duie categurie: depositu di vapore fisicu (PVD) è depositu di vapore chimicu (CVD).

A deposizione fisica di vapore si riferisce à una tecnulugia in quale un materiale hè vaporizatu in atomi, molécule o ionizatu in ioni per metudi fisichi in cundizioni di vacuum, è una filma fina hè dipositata nantu à a superficia di u materiale attraversu un prucessu di fase di gas.

A tecnulugia di deposizione fisica include principalmente trè metudi basi: evaporazione in vacuum, sputtering, è placcatura di ioni.

A deposizione fisica di vapore hà una larga gamma di materiali di sustrato applicabili è materiali di film; u prucessu hè simplice, salvatore di materiale è senza contaminazione; a film ottenuta hà i vantaghji di una forte aderenza à a basa di film, un grossu di film uniforme, compattezza è menu pinholes.

A deposizione chimica di vapore si riferisce à un metudu in u quale un gasu mischju interagisce cù a superficia di un sustrato à una certa temperatura per furmà un film metallicu o compostu nantu à a superficia di u sustrato.

Perchè u film di depositu di vapore chimicu hà una bona resistenza à l'usura, resistenza à a corrosione, resistenza à u calore è proprietà elettriche, ottiche è altre particulari, hè stata largamente usata in a fabricazione di machini, aerospaziale, trasportu, industria chimica di carbone è altri campi industriali.