It-trattament tas-sħana kimika huwa proċess ta 'trattament tas-sħana li fih il-biċċa tax-xogħol titqiegħed f'mezz speċifiku għat-tisħin u l-preservazzjoni tas-sħana, sabiex l-atomi attivi fil-medju jippenetraw fis-saff tal-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol, u b'hekk ibiddlu l-kompożizzjoni kimika u l-istruttura tal- saff tal-wiċċ tal-biċċa tax-xogħol, u mbagħad tbiddel il-prestazzjoni tagħha. It-trattament tas-sħana kimiku huwa wkoll wieħed mill-metodi biex tinkiseb l-ebusija tal-wiċċ, iebes u inforra. Meta mqabbel mat-tifi tal-wiċċ, it-trattament tas-sħana kimiku mhux biss ibiddel l-istruttura tal-wiċċ tal-azzar, iżda wkoll ibiddel il-kompożizzjoni kimika tiegħu. Skont l-elementi differenti infiltrati, it-trattament tas-sħana kimika jista 'jinqasam f'karburizzazzjoni, nitriding, multi-infiltrazzjoni, infiltrazzjoni ta' elementi oħra, eċċ. Il-proċess ta 'trattament tas-sħana kimika jinkludi tliet proċessi bażiċi: dekompożizzjoni, assorbiment u diffużjoni.

Trattament tas-sħana kimiku użat komunement:

Karburizzazzjoni, nitriding (komunement magħrufa bħala nitriding), karbonitriding (komunement magħrufa bħala cyanidation u nitriding artab), eċċ Sulfurizing, boronizing, aluminizing, vanadizing, chromizing, eċċ.

Kisi wieħed jew aktar tal-kisi tal-metall fuq il-wiċċ tal-materjal bażi jista 'jtejjeb b'mod sinifikanti r-reżistenza għall-ilbies, ir-reżistenza għall-korrużjoni u r-reżistenza tas-sħana tiegħu, jew jikseb proprjetajiet speċjali oħra. Hemm electroplating, kisi kimiku, kisi kompost, kisi ta 'infiltrazzjoni, kisi bis-sħana, evaporazzjoni bil-vakwu, kisi bl-isprej, kisi tal-jone, sputtering u metodi oħra.

Kisi tal-Karbur tal-Metall - Depożizzjoni tal-Fwar

It-teknoloġija tad-depożizzjoni tal-fwar tirreferi għal tip ġdid ta 'teknoloġija tal-kisi li tiddepożita sustanzi tal-fażi tal-fwar li fihom elementi ta' depożizzjoni fuq il-wiċċ tal-materjali b'metodi fiżiċi jew kimiċi biex jiffurmaw films irqaq.

Skont il-prinċipju tal-proċess ta 'depożizzjoni, it-teknoloġija tad-depożizzjoni tal-fwar tista' tinqasam f'żewġ kategoriji: depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD) u depożizzjoni kimika tal-fwar (CVD).

Depożizzjoni fiżika tal-fwar tirreferi għal teknoloġija li fiha materjal jiġi vaporizzat f'atomi, molekuli jew jonizzat f'joni b'metodi fiżiċi taħt kundizzjonijiet ta 'vakwu, u film irqiq jiġi depożitat fuq il-wiċċ tal-materjal permezz ta' proċess ta 'fażi tal-gass.

It-teknoloġija tad-depożizzjoni fiżika tinkludi prinċipalment tliet metodi bażiċi: evaporazzjoni bil-vakwu, sputtering, u kisi tal-jone.

Id-depożizzjoni fiżika tal-fwar għandha firxa wiesgħa ta 'materjali sottostrat applikabbli u materjali tal-film; il-proċess huwa sempliċi, li jiffranka l-materjal, u ħieles mit-tniġġis; il-film miksub għandu l-vantaġġi ta 'adeżjoni qawwija mal-bażi tal-film, ħxuna uniformi tal-film, kumpattezza, u inqas pinholes.

Id-depożizzjoni tal-fwar kimiku tirreferi għal metodu li fih gass imħallat jinteraġixxi mal-wiċċ ta 'sottostrat f'ċerta temperatura biex jifforma metall jew film kompost fuq il-wiċċ tas-sottostrat.

Minħabba li l-film ta 'depożizzjoni tal-fwar kimiku għandu reżistenza tajba għall-ilbies, reżistenza għall-korrużjoni, reżistenza għas-sħana u proprjetajiet elettriċi, ottiċi u proprjetajiet speċjali oħra, intuża ħafna fil-manifattura tal-makkinarju, aerospazjali, trasport, industrija kimika tal-faħam u oqsma industrijali oħra.